该厂为84英寸晶圆产量线配套工程的超去离子水控制系统，每天晚上带来含硅焦化废水150吨。焦化废水下虽无高价属，但硅成分高易积垢，且热敏电阻率需提升18MΩ·cm性能回收。多余治工院艺时未充分满足新施行的《网络化学工业水环境污物排卸条件》（GB39731-2020）专门排卸卫生防护距离。 废水处理方法组成性能 最主要污染破坏物 ：悬浊液硅（200-300mg/L）、颗粒剂硅（孔径0.1-1μm） 特色让 ：TOC<10μg/L，硼成分<5μg/L 水体质量性质 ：低电阻率（<50μS/cm）但硅有机物形态特征错综复杂 加工处理工序方法 科学创新选择"梯级膜分离法+电去阴阳离子"组和制作工艺： 微滤预治理 ：1μm瓷器膜手机拦截大颗料硅，通量恢复80LMH 铝离子交互树脂胶 ：D201大孔环氧树脂的选择过滤硅酸氧分子 二级考试RO程序 ：首先段收旧率60%，第二名段按照高脱硼膜组件 EDI电去化合物 ：瞬时电流体积密度2A/m²，定期我们要除残渣阴阳离子 分光光度计灭菌 ：254nm红外光谱线摄入量40mJ/cm² 技术设备工作亮点 开拓通用型阻硅剂（生物碳胺类塑料物），延长膜造成的污染时间段3倍 EDI电源模块全新流道制作，硅的还原率升高至99.8% 线硅研究仪（測量空间0.1-500μg/L）改变招商精准抑制 操作工作成效 经最后方检验： 总硅从280mg/L降低0.05mg/L 硼分子量从8μg/L降落到0.3μg/L 整体收购率从原40%加快至68% 膜更新周期性廷长至5年，年启用代价有效降低35%