沪某半导体材料集成块手工制造商，晶圆粗加工环节中引起含硅、氟的非常规工业生产废水，构思补救大小1200吨/日。工业生产废水含量复杂性，包含微米级硅粒状及氢氧化钠，传统型补救形式其特性很难标准。 化工废水化学成分及来历 具体被污染的物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 从何而来多种工序 ：晶圆刻蚀废气（45%）、CMP化学反应自动化机械拋光废气（40%）、机清洁水（15%） 处里制作工艺设计图 全新所采用"化学上的沉淀物+特殊工种膜分离处理"技术性路线规划： 钙盐积淀 ：添加氯化钙清掉氟化合物（提取CaF2结晶） 斜板沉淀池症状 ：挽回斜板沉淀池剂实行电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔直径膜虚报冒领微细小粒 反覆盖程序 ：脱盐率>98%，再利用率75% 减压蒸馏结晶体 ：浓水段实行氟化物零摆放 终于目的 氟化物质量浓度：<8mg/L（不超过各国特一级准则10mg/L） 硅含量的：<5mg/L 有限水源英文回收率：70%使用待凉水塔皮肤补水 垃圾减量化：蒸发掉渣子量较传统文化技术以减少60%